|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 20 van 73 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of BCl3 concentration and process pressure on the GaN mesa sidewalls in BCl3/Cl2 based inductively coupled plasma etching |
| Auteur: |
Rawal, D.S. Sehgal, B.K. Muralidharan, R. Malik, H.K. Dasgupta, Amitava |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 86 () nr. 12 pagina's 1844-1849 |
| Jaar: |
2012 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 20 van 73 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |