|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 25 gevonden artikelen
| Titel: |
Characteristics of hydrogenated silicon thin film deposited by RF-PECVD using He–SiH4 mixture |
| Auteur: |
Kim, In kyo Lim, Jong Hyeuk Yeom, Geun Young |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 86 (2011) nr. 1 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2011 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 25 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |