|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 14 van 64 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of background gas environment on oxygen incorporation in TiN films deposited using UHV reactive magnetron sputtering |
| Auteur: |
Nakano, Takeo Hoshi, Ken'ichiroh Baba, Shigeru |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 83 (2008) nr. 3 pagina's 3 p. |
| Jaar: |
2008 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 14 van 64 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |