|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 65 van 67 gevonden artikelen
| Titel: |
Two-dimensional modelling of diffusion of low-energy implanted arsenic in silicon at rapid thermal annealing |
| Auteur: |
Komarov, F.F. Mironov, A.M. Zayats, G.M. Tsurko, V.A. Velichko, O.I. Komarov, A.F. Belous, A.I. |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 81 (2007) nr. 10 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2007 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 65 van 67 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |