|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 21 van 24 gevonden artikelen
| Titel: |
TEOS-PECVD system for high growth rate deposition of SiO2 films |
| Auteur: |
Mahajan, A.M. Patil, L.S. Bange, J.P. Gautam, D.K. |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 79 (2005) nr. 3-4 pagina's 9 p. |
| Jaar: |
2005 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 21 van 24 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |