|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 12 van 69 gevonden artikelen
| Titel: |
Deposition of metal oxide thin films (HfO2 and RuO2) by oxygen radical-assisted MOCVD |
| Auteur: |
Kumagai, A. Zhang, H. Ishibashi, K. |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 74 (2004) nr. 3-4 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2004 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 12 van 69 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |