|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 9 van 16 gevonden artikelen
| Titel: |
Plasma etch models based on different plasma chemistry for micro-electro-mechanical-systems application |
| Auteur: |
Paul, A.K. Dimri, A.K. Bajpai, R.P. |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 68 (2002) nr. 2 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2002 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 9 van 16 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |