|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 9 van 14 gevonden artikelen
| Titel: |
Real dimensional simulation of anisotropic etching of silicon in CF4+O2 plasma |
| Auteur: |
Knizikevičius, R. Galdikas, A. Grigonis, A. |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 66 (2002) nr. 1 pagina's 9 p. |
| Jaar: |
2002 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 9 van 14 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |