|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 14 gevonden artikelen
| Titel: |
Effects of plasma conditions on the etch properties of AlGaN |
| Auteur: |
Kim, H.S Lee, D.H Lee, J.W Kim, T.I Yeom, G.Y |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 56 (2000) nr. 1 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2000 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 14 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |