|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 11 van 17 gevonden artikelen
| Titel: |
Mask of amorphous hydrogenated carbon films applied to chemical polishing and chemical dicing of silicon wafers |
| Auteur: |
Fissore, Alfeu Alves, Marco A.R. da Silva Braga, Edmundo Cescato, Lucila |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 55 (1999) nr. 1 pagina's 3 p. |
| Jaar: |
1999 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 11 van 17 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |