|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 41 van 47 gevonden artikelen
| Titel: |
The altered layer formation during the reactive ion etching of GaAs in CF2Cl2+O2 plasma |
| Auteur: |
Grigonis, A Galdikas, A Pranevičius, L |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 51 (1998) nr. 2 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
1998 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 41 van 47 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |