|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 14 gevonden artikelen
| Titel: |
Identification of induced reaction during XPS depth profile measurements of CeO2 Si films grown by ion beam epitaxy |
| Auteur: |
Wu, Z Huang, D Yang, X Wang, J Qin, F Zhang, J Yang, Z |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 49 (1998) nr. 2 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
1998 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 14 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |