|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 11 van 15 gevonden artikelen
| Titel: |
Selective area deposition of a-C:H films as masks for anisotropic etching of crystalline silicon in aqueous potassium hydroxide |
| Auteur: |
Fissore, Alfeu Alves, Marco AR da Silva Braga, Edmundo Cescato, Lucila |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 49 (1998) nr. 1 pagina's 2 p. |
| Jaar: |
1998 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 11 van 15 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |