|
| volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 1 van 15 gevonden artikelen
| Titel: |
Damage to Si substrates during SiO2 etching: Opportunities of subsequent removal by optimized cleaning procedures |
| Auteur: |
Richter, HH Wolff, A Blum, K Hoeppner, K Krüger, D Sorge, R |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 47 (1996) nr. 5 pagina's 7 p. |
| Jaar: |
1996 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 1 van 15 gevonden artikelen
| volgende >> |