|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 18 van 22 gevonden artikelen
| Titel: |
Simulation of silicon dry etching through a mask in low pressure fluorine-based plasma |
| Auteur: |
Knizikevičius, R Galdikas, A Grigonis, A Pranevičius, L Rutkūnienë, Ž |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 47 (1996) nr. 12 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
1996 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 18 van 22 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |