|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 74 gevonden artikelen
| Titel: |
bombardment angle dependence of reactive ion-beam etching of GaAs with CH4/H2 |
| Auteur: |
Villalvilla, JM Santos, C Vallés-Abarca, JA |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 45 (1994) nr. 10-11 pagina's 2 p. |
| Jaar: |
1994 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 74 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |