Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 5 van 74 gevonden artikelen
 
 
  bombardment angle dependence of reactive ion-beam etching of GaAs with CH4/H2
 
 
Titel: bombardment angle dependence of reactive ion-beam etching of GaAs with CH4/H2
Auteur: Villalvilla, JM
Santos, C
Vallés-Abarca, JA
Verschenen in: Vacuum
Paginering: Jaargang 45 (1994) nr. 10-11 pagina's 2 p.
Jaar: 1994
Inhoud:
Uitgever: Published by Elsevier B.V.
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 5 van 74 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland