|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 172 van 237 gevonden artikelen
| Titel: |
Silane plasma parameters and their dependence on the deposition conditions of PECVD a-Si:H films |
| Auteur: |
Zhonghe, Xi Fan, Yang Feng, Xu Guanghuai, Zhang Hongyi, Lin Jianfang, Hu |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 42 (1991) nr. 16 pagina's 1 p. |
| Jaar: |
1991 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 172 van 237 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |