|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 166 van 192 gevonden artikelen
| Titel: |
5354. The effect of thermal annealing on the grain size and electrical characteristics of arsenic ion-implanted and laser-irradiated polycrystaliine silicon films |
| Auteur: | |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 32 (1982) nr. 12 pagina's 1 p. |
| Jaar: |
1982 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 166 van 192 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |