Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 98 van 192 gevonden artikelen
 
 
  Lattice location and ionization induced annealing of self-interstitials in boron-implanted silicon by Rutherford backscattering.
 
 
Titel: Lattice location and ionization induced annealing of self-interstitials in boron-implanted silicon by Rutherford backscattering.
Auteur:
Verschenen in: Vacuum
Paginering: Jaargang 28 (1978) nr. 2 pagina's 1 p.
Jaar: 1978
Inhoud:
Uitgever: Pergamon Press Ltd
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 98 van 192 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland