|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 87 van 128 gevonden artikelen
| Titel: |
Process and characteristics of cobalt films deposited by thermal atomic layer deposition and silicide film formed |
| Auteur: |
Yang, Shuai Gao, Jianfeng Xiang, Jinjuan Liu, Weibing Hu, Yanpeng Wang, Zhenxing Liang, Meng Li, Lin Liu, Qing Wang, Guilei Li, Junfeng Zhao, Chao Luo, Jun |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 240 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 87 van 128 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |