|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 54 van 128 gevonden artikelen
| Titel: |
ICP-RIE etching of MESA and trench SiC structures in SF6 + O2 plasma: significant difference in SiC etching rate dependence on oxygen content |
| Auteur: |
Racka-Szmidt, K. Żelazko, J. Michałowski, P.P. Roguska, A. Pisarek, M. Banasiak, A. Przyborowska, K. Stańczyk, B. Harmasz, A. Sochacki, M. |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 240 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Authors |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 54 van 128 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |