|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 195 van 210 gevonden artikelen
| Titel: |
982. Thermodynamic approach to diffusion-controlled epitaxial silicon deposition in flow system of SiCl4 + H2 mixtures |
| Auteur: | |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 24 (1974) nr. 7 pagina's 1 p. |
| Jaar: |
1974 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 195 van 210 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |