|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 86 van 136 gevonden artikelen
| Titel: |
Optimizing chemical vapor deposition reactor design and thickness uniformity for ultra-thick epitaxy technology |
| Auteur: |
Sun, Chenguang Shen, Wenjie Cai, Huayi Zhang, Hui Zhu, Lingfeng Zhang, Wenhao Chang, Xueyan Mei, Deqing Chen, Guifeng |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 233 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 86 van 136 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |