|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 67 van 136 gevonden artikelen
| Titel: |
Investigation of the etching mechanism of silicon nitride by CF4/O2/Ar gas mixture plasma in ICP |
| Auteur: |
Gong, Liyue Luo, Qian Tan, Ziyan Li, Chan Li, Na Wang, Xinjie Gao, Fei Liu, Yongxin Bi, Zhenhua Mei, Xianxiu |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 233 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 67 van 136 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |