|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 133 van 136 gevonden artikelen
| Titel: |
Ultra-thin atomic layer deposited HfO2: Tailoring dielectric thickness for low-operating voltage thin-film transistors |
| Auteur: |
Chen, Minyu Chen, Huimin Solano, Eduardo Merino, Danile Hermida Hua, Wenqiang Ding, Xingwei Wei, Bin Liao, Yingjie Wu, Bing |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 233 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Authors |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 133 van 136 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |