|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 2 van 55 gevonden artikelen
| Titel: |
A novel physical vapor deposition setup applying high-frequency currents: Deposition of Cu thin films |
| Auteur: |
Poimenidis, Ioannis A. Liapakis, Michalis Klini, Argyro Farsari, Maria Moustaizis, Stavros D. Konsolakis, Michalis Loukakos, Panagiotis A. |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 232 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 2 van 55 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |