|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 122 van 134 gevonden artikelen
| Titel: |
Thermal atomic layer deposition-processed InHfZnO thin film transistors with excellent stability |
| Auteur: |
Chen, Hongzhu Yang, Jun Bai, Kun Wang, Luoqiang Qiao, Wenjian Ding, Xingwei Zhang, Jianhua |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 230 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2024 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 122 van 134 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |