|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 64 van 136 gevonden artikelen
| Titel: |
Formation mechanism of SiV in diamond from unintentional silicon doping by microwave plasma chemical vapor deposition |
| Auteur: |
Yang, Kai Teng, Yan Zhao, Weikang Tang, Kun Fan, Kangkang Duan, Jingjing Huang, Yingmeng Ye, Jiandong Zhang, Rong Zhu, Shunming Gu, Shulin |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 222 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2024 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 64 van 136 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |