|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 8 van 80 gevonden artikelen
| Titel: |
Atomic layer deposited RuO2 with controlled crystallinity and thickness for oxygen evolution reaction catalysis |
| Auteur: |
Lee, Jaehwan Lee, Sanghun Kim, Youngjun Kwon, Yongju Kim, Woo-Hee Chung, Seung-min Kim, Donghyun Kim, Hyungjun |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 220 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2024 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 8 van 80 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |