|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 47 van 95 gevonden artikelen
| Titel: |
Influence of plasma parameters on low-k SiCOH film grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition using dimethyldimethoxysilane |
| Auteur: |
Choi, Jinseok Yeom, H.J. Chae, Gwang-Seok Kee, Wonchul Kim, Kwan-Yong Lee, Hyo-Chang Jeong, Hyun-Dam Kim, Jung-Hyung |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 217 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2023 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Authors |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 47 van 95 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |