|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 67 van 92 gevonden artikelen
| Titel: |
On mechanisms to control SiO2 etching kinetics in low-power reactive-ion etching process using CF4 + C4F8 + Ar + He plasma |
| Auteur: |
Choi, Gilyoung Efremov, Alexander Lee, Dae-Kug Cho, Choong-Ho Kwon, Kwang-Ho |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 216 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2023 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 67 van 92 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |