|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 122 gevonden artikelen
| Titel: |
Analysis of residual oxygen during a-IGZO thin film formation by plasma-assisted reactive sputtering using a stable isotope |
| Auteur: |
Takenaka, Kosuke Endo, Masashi Hirayama, Hiroyuki Toko, Susumu Uchida, Giichiro Ebe, Akinori Setsuhara, Yuichi |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 215 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2023 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 122 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |