|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 24 van 86 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of various pulse plasma techniques on TiO2 etching for metalens formation |
| Auteur: |
Hong, Jong Woo Kim, Yeon Hee Kim, Hee Ju Tak, Hyun Woo Bae, Ki Deok Lee, Jeong Yub Bae, Hae Soo Kim, Yong Su Yeom, Geun Young |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 212 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2023 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 24 van 86 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |