|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 43 van 81 gevonden artikelen
| Titel: |
Manipulation of etch selectivity of silicon nitride over silicon dioxide to a-carbon by controlling substrate temperature with a CF4/H2 plasma |
| Auteur: |
Hsiao, Shih-Nan Britun, Nikolay Nguyen, Thi-Thuy-Nga Tsutsumi, Takayoshi Ishikawa, Kenji Sekine, Makoto Hori, Masaru |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 210 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2023 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 43 van 81 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |