|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 195 van 202 gevonden artikelen
| Titel: |
1517. Utilization of ion beams and high-frequency discharge for the deposition of dielectric and metal films |
| Auteur: | |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 21 (1971) nr. 12 pagina's 2 p. |
| Jaar: |
1971 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 195 van 202 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |