|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 99 van 128 gevonden artikelen
| Titel: |
Selective atomic layer etching of Al2O3, AlNx and HfO2 in conventional ICP etching tool |
| Auteur: |
Kuzmenko, V. Lebedinskij, Y. Miakonkikh, A. Rudenko, K. |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 207 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2023 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 99 van 128 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |