|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 29 van 84 gevonden artikelen
| Titel: |
Effects of deposition precursors of hydrogenated amorphous carbon films on the plasma etching resistance based on mass spectrometer measurements and machine learning analysis |
| Auteur: |
Kurokawa, Jumpei Kondo, Hiroki Tsutsumi, Takayoshi Ishikawa, Kenji Sekine, Makoto Hori, Masaru |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 205 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2022 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 29 van 84 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |