|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 30 van 80 gevonden artikelen
| Titel: |
Etching characteristics of low-k SiCOH thin films under fluorocarbon-based plasmas |
| Auteur: |
Comeaux, Jacob Wirth, William Courville, Justin Baek, Nam-Wuk Jung, Donggeun Jang, Seonhee |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 202 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2022 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 30 van 80 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |