Effects of post oxidation of SiO2/Si interfaces in ultrahigh vacuum below 450 °C
Titel:
Effects of post oxidation of SiO2/Si interfaces in ultrahigh vacuum below 450 °C
Auteur:
Jahanshah Rad, Zahra Lehtiö, Juha-Pekka Chen, Kexun Mack, Iris Vähänissi, Ville Miettinen, Mikko Punkkinen, Marko Punkkinen, Risto Suomalainen, Petri Hedman, Hannu-Pekka Kuzmin, Mikhail Kozlova, Jekaterina Rähn, Mihkel Tamm, Aile Savin, Hele Laukkanen, Pekka Kokko, Kalevi