|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 24 van 52 gevonden artikelen
| Titel: |
Kinetics of plasma-assisted chemical vapor deposition combined with inductively excited RF discharge and properties of a-C:H:SiOx coatings |
| Auteur: |
Grenadyorov, A.S. Oskirko, V.O. Solovyev, А.А. Semenov, V.A. Rabotkin, S.V. Oskomov, K.V. Sypchenko, V.S. |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 199 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2022 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 24 van 52 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |