|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 63 van 69 gevonden artikelen
| Titel: |
Ti thin films deposited by high-power impulse magnetron sputtering in an industrial system: Process parameters for a low surface roughness |
| Auteur: |
Suliali, Nyasha J. Goosen, William E. Janse van Vuuren, Arno Olivier, Ezra J. Bakhit, Babak Högberg, Hans Darakchieva, Vanya Botha, Johannes R. |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 195 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2022 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Authors |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 63 van 69 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |