|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 9 van 52 gevonden artikelen
| Titel: |
Enhancement of discharge and deposition rate by imposed pulse current during the cathodic arc deposition of ta-C films |
| Auteur: |
Hu, Jian Tian, Xiubo Liu, Hongye Gong, Chunzhi Wang, Benfu |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 193 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2021 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 9 van 52 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |