|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 45 van 52 gevonden artikelen
| Titel: |
Study of the role of air exposure time to interface oxide on HCl treated InAs (100) before atomic layer deposition of Al2O3 |
| Auteur: |
Jing, Meiyi Lu, Tongkang Sun, Yong Zhao, Xiaoliang Feng, Ze Wang, Yitong Liu, Hui Wang, Wei-Hua Lu, Feng Cheng, Yahui Han, Genquan Dong, Hong |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 193 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2021 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 45 van 52 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |