|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 79 van 80 gevonden artikelen
| Titel: |
UV-Shielding TiO2 thin film deposition on flexible and heat-labile substrate using an open-air hybrid CVD/Plasma method |
| Auteur: |
Mauchauffé, Rodolphe Kim, Jongwoon Kim, Dong-hyun Lee, Sangwon Kwon, Minserk Moon, Se Youn |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 192 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2021 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 79 van 80 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |