|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 19 van 80 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of a dielectric cavity on the ion etching of dielectrics by electron beam-produced plasma generated by a forevacuum plasma electron source |
| Auteur: |
Zolotukhin, D.B. Oks, E.M. Tyunkov, A.V. Yakovlev, E.V. Yushkov, Yu.G. |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 192 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2021 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 19 van 80 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |