|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 63 van 80 gevonden artikelen
| Titel: |
Study on the influence of thin plasma thickness on electromagnetic wave attenuation |
| Auteur: |
Wei, Xiaolong Chang, Yipeng Lin, Mao Xu, Haojun Li, Yiwen Han, Xinmin |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 191 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2021 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 63 van 80 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |