|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 6 van 35 gevonden artikelen
| Titel: |
Comparative study of Cl2 + O2 and HBr + O2 plasma chemistries in respect to silicon reactive-ion etching process |
| Auteur: |
Lim, Nomin Efremov, Alexander Kwon, Kwang-Ho |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 186 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2021 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 6 van 35 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |