|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 42 van 79 gevonden artikelen
| Titel: |
Inductively coupled plasma reactive ion etching of copper thin films using ethylenediamine/butanol/Ar plasma |
| Auteur: |
Cha, Moon Hwan Lim, Eun Taek Park, Sung Yong Lee, Ji Su Chung, Chee Won |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 181 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2020 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 42 van 79 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |