Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 43 van 194 gevonden artikelen
 
 
  1259. Effect of oxygen on the rf sputtering rate of SiO2
 
 
Titel: 1259. Effect of oxygen on the rf sputtering rate of SiO2
Auteur:
Verschenen in: Vacuum
Paginering: Jaargang 18 (1968) nr. 9 pagina's 1 p.
Jaar: 1968
Inhoud:
Uitgever: Published by Elsevier B.V.
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 43 van 194 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland