|
| volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 1 van 38 gevonden artikelen
| Titel: |
Annealing effects on a-SiC:H and a-SiCN:H films deposited by plasma CVD methods |
| Auteur: |
Peter, S. Ehrler, R. Seyller, T. Speck, F. |
| Verschenen in: |
Vacuum |
| Paginering: | Jaargang 178 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2020 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 1 van 38 gevonden artikelen
| volgende >> |